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0be671fccf
@ -53,9 +53,19 @@ La déclinaison de cette méthode par relation donnée ci-dessous se base sur de
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# Criticité par couple Composant -> Minerai
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# Criticité par couple Composant -> Minerai
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## Audio -> Antimoine - Coefficient: 0.6
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```yaml
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pair:
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composant: Audio
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minerai: Antimoine
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ics: 0.6
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f_tech: 0.6
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delai: 0.5
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cout: 0.7
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```
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### Faisabilité technique: 0.6
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## {{ composant }} -> {{ minerai }} - Coefficient: {{ ics }}
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### Faisabilité technique: {{ f_tech }}
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- **Alternative existante**:
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- **Alternative existante**:
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- **Lesquelles**: Autres dopants du groupe V comme l'arsenic ou le phosphore, modifications des procédés de dopage pour utiliser d'autres éléments.
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- **Lesquelles**: Autres dopants du groupe V comme l'arsenic ou le phosphore, modifications des procédés de dopage pour utiliser d'autres éléments.
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- **Quel impact**: Modification des caractéristiques électriques des semi-conducteurs analogiques, notamment en termes de mobilité des porteurs et de comportement thermique, potentiellement critique pour les applications analogiques de précision.
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- **Quel impact**: Modification des caractéristiques électriques des semi-conducteurs analogiques, notamment en termes de mobilité des porteurs et de comportement thermique, potentiellement critique pour les applications analogiques de précision.
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@ -63,13 +73,13 @@ La déclinaison de cette méthode par relation donnée ci-dessous se base sur de
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- **Lesquelles**: Nouvelles structures de semi-conducteurs utilisant d'autres matériaux ou approches de dopage, technologies basées sur des matériaux bidimensionnels.
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- **Lesquelles**: Nouvelles structures de semi-conducteurs utilisant d'autres matériaux ou approches de dopage, technologies basées sur des matériaux bidimensionnels.
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- **Quel impact**: Potentiel de maintenir des performances analogiques acceptables mais avec des défis concernant l'intégration dans les procédés de fabrication existants.
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- **Quel impact**: Potentiel de maintenir des performances analogiques acceptables mais avec des défis concernant l'intégration dans les procédés de fabrication existants.
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### Délai d'implémentation: 0.5
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### Délai d'implémentation: {{ delai }}
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- **Alternative existante**:
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- **Alternative existante**:
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- Transition vers des profils de dopage alternatifs possible dans un délai de 2-4 ans, incluant les phases de qualification et de validation pour les applications sensibles.
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- Transition vers des profils de dopage alternatifs possible dans un délai de 2-4 ans, incluant les phases de qualification et de validation pour les applications sensibles.
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- **Alternative théorique**:
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- **Alternative théorique**:
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- Développement et industrialisation des approches alternatives estimés à 4-7 ans avant adoption à grande échelle dans la production de wafers analogiques.
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- Développement et industrialisation des approches alternatives estimés à 4-7 ans avant adoption à grande échelle dans la production de wafers analogiques.
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### Impact coût: 0.7
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### Impact coût: {{ cout }}
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- **Alternative existante**:
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- **Alternative existante**:
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- Augmentation potentielle des coûts de 15-25% avec les dopants alternatifs, principalement due à des besoins accrus en optimisation des procédés et en contrôle de qualité.
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- Augmentation potentielle des coûts de 15-25% avec les dopants alternatifs, principalement due à des besoins accrus en optimisation des procédés et en contrôle de qualité.
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- **Alternative théorique**:
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- **Alternative théorique**:
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