From 0be671fccf068f9e6c2dc482f4726e4f8e7f56e7 Mon Sep 17 00:00:00 2001 From: =?UTF-8?q?St=C3=A9phan=20Peccini?= Date: Tue, 6 May 2025 18:28:13 +0200 Subject: [PATCH] =?UTF-8?q?Actualiser=20Documents/Criticit=C3=A9s-ng/Fiche?= =?UTF-8?q?=20technique=20ICS.md?= MIME-Version: 1.0 Content-Type: text/plain; charset=UTF-8 Content-Transfer-Encoding: 8bit --- Documents/Criticités-ng/Fiche technique ICS.md | 18 ++++++++++++++---- 1 file changed, 14 insertions(+), 4 deletions(-) diff --git a/Documents/Criticités-ng/Fiche technique ICS.md b/Documents/Criticités-ng/Fiche technique ICS.md index e3341bd..d6fcf15 100644 --- a/Documents/Criticités-ng/Fiche technique ICS.md +++ b/Documents/Criticités-ng/Fiche technique ICS.md @@ -53,9 +53,19 @@ La déclinaison de cette méthode par relation donnée ci-dessous se base sur de # Criticité par couple Composant -> Minerai -## Audio -> Antimoine - Coefficient: 0.6 +```yaml +pair: + composant: Audio + minerai: Antimoine + ics: 0.6 + f_tech: 0.6 + delai: 0.5 + cout: 0.7 +``` -### Faisabilité technique: 0.6 +## {{ composant }} -> {{ minerai }} - Coefficient: {{ ics }} + +### Faisabilité technique: {{ f_tech }} - **Alternative existante**: - **Lesquelles**: Autres dopants du groupe V comme l'arsenic ou le phosphore, modifications des procédés de dopage pour utiliser d'autres éléments. - **Quel impact**: Modification des caractéristiques électriques des semi-conducteurs analogiques, notamment en termes de mobilité des porteurs et de comportement thermique, potentiellement critique pour les applications analogiques de précision. @@ -63,13 +73,13 @@ La déclinaison de cette méthode par relation donnée ci-dessous se base sur de - **Lesquelles**: Nouvelles structures de semi-conducteurs utilisant d'autres matériaux ou approches de dopage, technologies basées sur des matériaux bidimensionnels. - **Quel impact**: Potentiel de maintenir des performances analogiques acceptables mais avec des défis concernant l'intégration dans les procédés de fabrication existants. -### Délai d'implémentation: 0.5 +### Délai d'implémentation: {{ delai }} - **Alternative existante**: - Transition vers des profils de dopage alternatifs possible dans un délai de 2-4 ans, incluant les phases de qualification et de validation pour les applications sensibles. - **Alternative théorique**: - Développement et industrialisation des approches alternatives estimés à 4-7 ans avant adoption à grande échelle dans la production de wafers analogiques. -### Impact coût: 0.7 +### Impact coût: {{ cout }} - **Alternative existante**: - Augmentation potentielle des coûts de 15-25% avec les dopants alternatifs, principalement due à des besoins accrus en optimisation des procédés et en contrôle de qualité. - **Alternative théorique**: