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<section role="region" aria-labelledby="fiche-d-assemblage-matériels-de-photolithographie-duv">
<h1 id="fiche-d-assemblage-matériels-de-photolithographie-duv">Fiche d’assemblage : Matériels de photolithographie DUV</h1>

<details><summary>Description générale</summary><h2>Description générale</h2>
<p>Les scanners <strong>DUV</strong> (Deep Ultraviolet – 193 nm ArF immersion / 193 nm ArF sec / 248 nm KrF) couvrent les nœuds <strong>28 nm à 7 nm</strong> (couches critiques) et les niveaux moins exigeants.
Un ArF immersion de dernière génération (<strong>TWINSCAN NXT:2100i</strong>) compte environ <strong>55 000 pièces</strong>, pèse 115 t et coûte <strong>90 – 140 M€</strong>.
Les KrF modernes (<strong>NSR‑S635E</strong>, Nikon) se vendent autour de <strong>45 M€</strong>.</p>
<p>Le flux d’assemblage s’effectue en 4 phases :</p>
<ol>
<li><strong>Pré‑intégration modules</strong> (laser, optique, châssis) aux Pays‑Bas ou au Japon</li>
<li><strong>Intégration finale en salle blanche</strong> (ASML Veldhoven, Nikon Kumagaya/Hiroshima, Canon Utsunomiya)</li>
<li><strong>Démontage logistique</strong> (≈ 15–18 conteneurs)</li>
<li><strong>Ré‑assemblage &amp; qualification</strong> chez le fondeur (3–6 mois)</li>
</ol>
<table role="table" summary="Description générale">
<thead>
<tr>
<th scope="col" style="text-align: left;">Plateforme</th>
<th scope="col" style="text-align: center;">λ (nm)</th>
<th scope="col" style="text-align: center;">NA max</th>
<th scope="col" style="text-align: center;">Débit wafers/h</th>
<th scope="col" style="text-align: left;">Commercialisation</th>
</tr>
</thead>
<tbody>
<tr>
<td style="text-align: left;"><strong>TWINSCAN NXT (ASML)</strong></td>
<td style="text-align: center;">193 i</td>
<td style="text-align: center;">1,35</td>
<td style="text-align: center;">275</td>
<td style="text-align: left;">2010 –</td>
</tr>
<tr>
<td style="text-align: left;"><strong>NSR‑S635E (Nikon)</strong></td>
<td style="text-align: center;">193 i</td>
<td style="text-align: center;">1,35</td>
<td style="text-align: center;">250</td>
<td style="text-align: left;">2018 –</td>
</tr>
<tr>
<td style="text-align: left;"><strong>FPA‑3030iR (Canon)</strong></td>
<td style="text-align: center;">193 i</td>
<td style="text-align: center;">1,35</td>
<td style="text-align: center;">240</td>
<td style="text-align: left;">2019 –</td>
</tr>
</tbody>
<caption>Description générale</caption></table>
<hr/></details>
<details><summary>Composants assemblés</summary><h2>Composants assemblés</h2>
<table role="table" summary="Composants assemblés">
<thead>
<tr>
<th scope="col" style="text-align: left;"><strong>Sous-système</strong></th>
<th scope="col" style="text-align: left;"><strong>Fonction</strong></th>
<th scope="col" style="text-align: left;"><strong>Fournisseur principal</strong></th>
<th scope="col" style="text-align: left;"><strong>Part dans le coût</strong></th>
</tr>
</thead>
<tbody>
<tr>
<td style="text-align: left;">Source laser excimère (ArF / KrF)</td>
<td style="text-align: left;">Génère impulsions 193 / 248 nm</td>
<td style="text-align: left;">Cymer (ASML), Gigaphoton</td>
<td style="text-align: left;">18–22 %</td>
</tr>
<tr>
<td style="text-align: left;">Optique projection &amp; illumination</td>
<td style="text-align: left;">Lentilles CaF₂ / fused‑silica</td>
<td style="text-align: left;">Zeiss SMT, Nikon Hikari</td>
<td style="text-align: left;">20–25 %</td>
</tr>
<tr>
<td style="text-align: left;">Système immersion</td>
<td style="text-align: left;">Injecte eau ultra‑pure à 6 L/s</td>
<td style="text-align: left;">ASML Hydra, Nikon SIS</td>
<td style="text-align: left;">8–10 %</td>
</tr>
<tr>
<td style="text-align: left;">Plateau wafer &amp; méca‑statif</td>
<td style="text-align: left;">Positionne wafer ± 2 nm</td>
<td style="text-align: left;">ASML Motion, Nikon Precision</td>
<td style="text-align: left;">12–14 %</td>
</tr>
<tr>
<td style="text-align: left;">Métrologie &amp; alignement</td>
<td style="text-align: left;">Mesure overlay &lt; 2 nm</td>
<td style="text-align: left;">ASML Horus, Nikon In‑Chip</td>
<td style="text-align: left;">6–8 %</td>
</tr>
<tr>
<td style="text-align: left;">Vide &amp; environnement</td>
<td style="text-align: left;">10⁻³ mbar, filtration H₂O</td>
<td style="text-align: left;">Edwards, Pfeiffer</td>
<td style="text-align: left;">4–6 %</td>
</tr>
<tr>
<td style="text-align: left;">Contrôle / logiciel</td>
<td style="text-align: left;">Pilotage temps‑réel</td>
<td style="text-align: left;">ASML Twinscan SW, Nikon CTL</td>
<td style="text-align: left;">5–6 %</td>
</tr>
</tbody>
<caption>Composants assemblés</caption></table>
<p><em>Coûts indicatifs pour NXT:2100i (2024).</em></p>
<hr/></details>
<details><summary>Principaux assembleurs (livraisons 2024)</summary><h2>Principaux assembleurs (livraisons 2024)</h2>
<table role="table" summary="Principaux assembleurs (livraisons 2024)">
<thead>
<tr>
<th scope="col" style="text-align: left;"><strong>Pays d'implantation</strong></th>
<th scope="col" style="text-align: left;"><strong>Entreprise</strong></th>
<th scope="col" style="text-align: left;"><strong>Pays d'origine</strong></th>
<th scope="col" style="text-align: left;"><strong>Part de marché</strong></th>
</tr>
</thead>
<tbody>
<tr>
<td style="text-align: left;">Pays‑Bas</td>
<td style="text-align: left;">ASML</td>
<td style="text-align: left;">Pays‑Bas</td>
<td style="text-align: left;">84 %</td>
</tr>
<tr>
<td style="text-align: left;"><strong>Pays-Bas</strong></td>
<td style="text-align: left;"><strong>Total</strong></td>
<td style="text-align: left;"><strong>Pays-Bas</strong></td>
<td style="text-align: left;"><strong>84 %</strong></td>
</tr>
<tr>
<td style="text-align: left;">Japon</td>
<td style="text-align: left;">Nikon</td>
<td style="text-align: left;">Japon</td>
<td style="text-align: left;">12 %</td>
</tr>
<tr>
<td style="text-align: left;">Japon</td>
<td style="text-align: left;">Canon</td>
<td style="text-align: left;">Japon</td>
<td style="text-align: left;">4 %</td>
</tr>
<tr>
<td style="text-align: left;"><strong>Japon</strong></td>
<td style="text-align: left;"><strong>Total</strong></td>
<td style="text-align: left;"><strong>Japon</strong></td>
<td style="text-align: left;"><strong>16 %</strong></td>
</tr>
</tbody>
<caption>Principaux assembleurs (livraisons 2024)</caption></table>
<p><em>Total 2024 : ~ 240 DUV scanners (toutes longueurs d’onde) livrés, dont 90 % destinés à la Chine.</em></p>
<hr/></details>
<details><summary>Contraintes spécifiques</summary><h2>Contraintes spécifiques</h2>
<table role="table" summary="Contraintes spécifiques">
<thead>
<tr>
<th scope="col" style="text-align: left;"><strong>Contrainte</strong></th>
<th scope="col" style="text-align: left;"><strong>Description</strong></th>
<th scope="col" style="text-align: left;"><strong>Impact</strong></th>
</tr>
</thead>
<tbody>
<tr>
<td style="text-align: left;">Qualité eau immersion</td>
<td style="text-align: left;">TOC &lt; 1 ppb, particules &lt; 20 nm</td>
<td style="text-align: left;">Risque bulles &amp; défauts</td>
</tr>
<tr>
<td style="text-align: left;">Lentilles CaF₂</td>
<td style="text-align: left;">Birefringence, hygroscopie</td>
<td style="text-align: left;">Variation de focus</td>
</tr>
<tr>
<td style="text-align: left;">Overlay multi‑patterning</td>
<td style="text-align: left;">≤ 2 nm à 120 pauses</td>
<td style="text-align: left;">Dépend stabilité stage</td>
</tr>
<tr>
<td style="text-align: left;">Export‑control</td>
<td style="text-align: left;">Aucune restriction stricte sur DUV</td>
<td style="text-align: left;">Chine peut acheter ArF</td>
</tr>
<tr>
<td style="text-align: left;">Vieillissement laser</td>
<td style="text-align: left;">Tubes ArF MTTF ≈ 5 Gshots</td>
<td style="text-align: left;">OPEX source important</td>
</tr>
</tbody>
<caption>Contraintes spécifiques</caption></table>
<hr/></details>
<details><summary>Logistique et transport</summary><h2>Logistique et transport</h2>
<ul>
<li><strong>15–18 caisses</strong> (air + mer) ; modules ≤ 12 t</li>
<li>Transport aérien Boeing 747‑8F / 777F, conteneurs maritimes 40’ HC</li>
<li>Délai porte‑à‑porte : <strong>45 jours</strong> (Europe → États‑Unis ou Japon → Corée)</li>
<li>Assurance cargo typique <strong>100 M$</strong> par scanner</li>
</ul>
<hr/></details>
<details><summary>Durabilité et cycle de vie</summary><h2>Durabilité et cycle de vie</h2>
<table role="table" summary="Durabilité et cycle de vie">
<thead>
<tr>
<th scope="col" style="text-align: left;"><strong>Volet</strong></th>
<th scope="col" style="text-align: left;"><strong>Détail</strong></th>
</tr>
</thead>
<tbody>
<tr>
<td style="text-align: left;">Maintenance</td>
<td style="text-align: left;">Contrats 10 ans, remplacement tube laser tous 6 mois</td>
</tr>
<tr>
<td style="text-align: left;">Consommation</td>
<td style="text-align: left;">350 kW (immersion) / 120 kW (KrF)</td>
</tr>
<tr>
<td style="text-align: left;">Re‑polissage lentilles</td>
<td style="text-align: left;">Tous les 50 kpl</td>
</tr>
<tr>
<td style="text-align: left;">Recyclabilité</td>
<td style="text-align: left;">75 % masse métallique, CaF₂ recyclage dédié</td>
</tr>
</tbody>
<caption>Durabilité et cycle de vie</caption></table>
<hr/></details>
<details><summary>Matrice des risques</summary><h2>Matrice des risques</h2>
<table role="table" summary="Matrice des risques">
<thead>
<tr>
<th scope="col" style="text-align: left;"><strong>Impact / Probabilité</strong></th>
<th scope="col" style="text-align: left;"><strong>Faible</strong></th>
<th scope="col" style="text-align: left;"><strong>Moyen</strong></th>
<th scope="col" style="text-align: left;"><strong>Fort</strong></th>
</tr>
</thead>
<tbody>
<tr>
<td style="text-align: left;"><strong>Fort</strong></td>
<td style="text-align: left;">–</td>
<td style="text-align: left;">R1 (Monopole laser ArF)</td>
<td style="text-align: left;">R2 (Optiques CaF₂)</td>
</tr>
<tr>
<td style="text-align: left;"><strong>Moyen</strong></td>
<td style="text-align: left;">R4 (Logistique trans‑Pacifique)</td>
<td style="text-align: left;">R3 (Eau immersion)</td>
<td style="text-align: left;">R5 (Concentration marché)</td>
</tr>
<tr>
<td style="text-align: left;"><strong>Faible</strong></td>
<td style="text-align: left;">–</td>
<td style="text-align: left;">–</td>
<td style="text-align: left;">–</td>
</tr>
</tbody>
<caption>Matrice des risques</caption></table>
<p><strong>Descriptions</strong>
- <strong>R1</strong> : Cymer + Gigaphoton = duopole sur lasers excimère haute puissance.
- <strong>R2</strong> : Goulot Zeiss / Nikon Hikari pour lentilles CaF₂ grand diamètre.
- <strong>R3</strong> : Qualité eau immersion impacte rendement et overlay.
- <strong>R4</strong> : Retards fret aérien / maritime ; 18 caisses hors‑gabarit.
- <strong>R5</strong> : 84 % des livraisons assurées par un seul acteur (ASML).</p>
<hr/></details>
<details><summary>Indice de Herfindahl-Hirschmann (HHI)</summary><h2>Indice de Herfindahl-Hirschmann (HHI)</h2>
<table role="table" summary="Indice de Herfindahl-Hirschmann (HHI)">
<thead>
<tr>
<th scope="col" style="text-align: left;"><strong>IHH</strong></th>
<th scope="col" style="text-align: left;"><strong>Faible</strong></th>
<th scope="col" style="text-align: left;"><strong>Modéré</strong></th>
<th scope="col" style="text-align: left;"><strong>Élevé</strong></th>
</tr>
</thead>
<tbody>
<tr>
<td style="text-align: left;"><strong>Acteurs</strong></td>
<td style="text-align: left;"></td>
<td style="text-align: left;"></td>
<td style="text-align: left;"><strong>72</strong></td>
</tr>
<tr>
<td style="text-align: left;"><strong>Pays</strong></td>
<td style="text-align: left;"></td>
<td style="text-align: left;"><strong>73</strong></td>
<td style="text-align: left;"></td>
</tr>
</tbody>
<caption>Indice de Herfindahl-Hirschmann (HHI)</caption></table>
<p><em>Acteurs</em> : ASML 84 %, Nikon 12 %, Canon 4 %
<em>Pays</em> : Pays‑Bas + Japon dominants.</p>
<hr/></details>
<details><summary>En résumé</summary><h2>En résumé</h2>
<ul>
<li><strong>Trois assembleurs</strong> (ASML, Nikon, Canon) mais <strong>ASML domine</strong> le segment ArF immersion.</li>
<li>Le <strong>laser excimère</strong> (Cymer, Gigaphoton) constitue la plus forte dépendance.</li>
<li>Les scanners DUV restent <strong>vendables à la Chine</strong>, ce qui oriente une grande partie de la production.</li>
<li>Principaux risques : capacité optiques CaF₂, disponibilité lasers, logistique trans‑Pacifique.</li>
</ul>
<hr/></details>
<details><summary>Autres informations</summary><h2>Autres informations</h2>
<table role="table" summary="Autres informations">
<thead>
<tr>
<th scope="col" style="text-align: left;">Étape</th>
<th scope="col" style="text-align: left;">Localisation principale</th>
<th scope="col" style="text-align: left;">Commentaire</th>
</tr>
</thead>
<tbody>
<tr>
<td style="text-align: left;">Fabrication stages wafer/reticle</td>
<td style="text-align: left;"><strong>Wilton (CT, USA)</strong></td>
<td style="text-align: left;">Modules DUV/EUV expédiés vers Veldhoven</td>
</tr>
<tr>
<td style="text-align: left;">Production laser excimère</td>
<td style="text-align: left;"><strong>San Diego (Cymer, USA)</strong> &amp; <strong>Oyama (Gigaphoton, JP)</strong></td>
<td style="text-align: left;">Sources ArF / KrF</td>
</tr>
<tr>
<td style="text-align: left;">Optiques transmissives</td>
<td style="text-align: left;"><strong>Oberkochen (Zeiss SMT, DE)</strong> / <strong>Kumagaya (Nikon Hikari, JP)</strong></td>
<td style="text-align: left;">Lentilles CaF₂ haute pureté</td>
</tr>
<tr>
<td style="text-align: left;">Intégration finale scanners ASML</td>
<td style="text-align: left;"><strong>Veldhoven (NL)</strong></td>
<td style="text-align: left;">Montage, alignement, qualification</td>
</tr>
<tr>
<td style="text-align: left;">Intégration finale scanners Nikon</td>
<td style="text-align: left;"><strong>Kumagaya &amp; Hiroshima (JP)</strong></td>
<td style="text-align: left;">Deux lignes DUV</td>
</tr>
<tr>
<td style="text-align: left;">Intégration finale scanners Canon</td>
<td style="text-align: left;"><strong>Utsunomiya (JP)</strong></td>
<td style="text-align: left;">Ligne i‑line / KrF / ArF</td>
</tr>
<tr>
<td style="text-align: left;">Ré‑assemblage &amp; mise en service</td>
<td style="text-align: left;"><strong>Fabs client</strong> (TSMC, SMIC, UMC, Samsung)</td>
<td style="text-align: left;">Supervision constructeur</td>
</tr>
</tbody>
<caption>Autres informations</caption></table>
<hr/></details>
<details><summary>Sources techniques</summary><h2>Sources techniques</h2>
<ol>
<li>ASML – Brochure « TWINSCAN NXT:2100i » (2024)</li>
<li>Cymer – « ArF immersion laser roadmap » (2025)</li>
<li>Gigaphoton – « KrF / ArF Source Spec Sheet » (2024)</li>
<li>Zeiss SMT – « DUV Optics White‑paper » (2023)</li>
<li>Nikon – « NSR History &amp; Production Sites » (2024)</li>
<li>Canon – Communiqué « Utsunomiya expansion lithography » (2024)</li>
<li>DigiTimes – « ASML has installed 1 400 DUV tools in China » (2025)</li>
<li>ASML Veldhoven – Location &amp; manufacturing footprint (2024)</li>
</ol></details>
</section>