Fiche d’assemblage : Matériels de photolithographie EUV

Description générale

Description générale

Les scanners EUV (Extreme Ultra Violet – λ ≈ 13,5 nm) sont les équipements clés qui permettent de graver les nœuds < 7 nm. Une machine de dernière génération (NXE:3800E) compte plus de 100 000 pièces, pèse 180 t et coûte 220–260 M€ (EXE > 350 M€ en High-NA) (ASML to pass tariff costs to US customers, gain three High NA EUV customers, ASML Is the Chip-Equipment Leader. Its Stock Is Poised to Bounce Back.). Le flux d’assemblage se déroule en 4 grandes phases :

  1. Pré-intégration modules (source, optique, châssis) aux Pays-Bas et en Allemagne
  2. Intégration finale en salle blanche ASML Veldhoven
  3. Démontage logistique (≈ 35 conteneurs + 3 avions cargo)
  4. Ré-assemblage & qualification chez le fondeur (6–9 mois)

Les générations : | Plateforme | NA | Débit wafers/h | Commercialisation | | :-- | :--: | :--: | :-- | | NXE | 0,33 | 220 | 2019– | | EXE (High-NA) | 0,55 | 185 | 2024– (phase R&D)* |


Composants assemblés

Composants assemblés

Sous-système Fonction Fournisseur principal Part dans le coût
Source EUV LPP Génère plasma Sn → 13,5 nm Cymer (ASML), Gigaphoton 25–30 % ([Cymer
Optique collecteur & miroirs Réfléchit et façonne le faisceau Zeiss SMT (DE) 25–30 %
Projection & masques (reticle) Imprime le motif Zeiss / ASML 10–15 %
Plateau wafer & méca-statif Positionne wafer à ±1 nm ASML Motion 10–12 %
Métrologie & alignement Mesure overlay < 1,5 nm ASML Horus 8–10 %
Vide & contamination 10⁻⁶ mbar + pièges Sn Pfeiffer, Edwards 5–6 %
Contrôle/logiciel Pilotage temps réel ASML Twinscan SW 5–6 %
Composants assemblés

Coûts indicatifs pour NXE :3800E (2024).


Principaux assembleurs (livraisons par an, 2024)

Principaux assembleurs (livraisons par an, 2024)

Pays d'implantation Entreprise Pays d'origine Part de marché
Pays-Bas ASML Pays-Bas 100 %
Pays-Bas Total Pays-Bas 100 %
Principaux assembleurs (livraisons par an, 2024)

Total 2024 : 55 NXE livrées, 5 EXE High-NA déjà en R&D chez Intel, TSMC, Samsung (ASML to pass tariff costs to US customers, gain three High NA EUV customers, Belgium's imec reports breakthroughs with new ASML chip printing machine).


Contraintes spécifiques

Contraintes spécifiques

Contrainte Description Impact
Pureté du vide Empreinte carbone/Sn < ppm Rendement optique, durée miroir
Optiques Mo/Si 6 paires miroir, planéité λ/100 Délais supply chain Zeiss
Vibrations < 20 pm Interféro-mécanique actif Coût isolateurs & fondations
Export-control Règles NL/US (Wassenaar) Risque blocage clients Chine
Pellicule EUV Pellicle SiN < 80 nm Limite débit & rendement
Contraintes spécifiques

Logistique et transport

Logistique et transport


Durabilité et cycle de vie

Durabilité et cycle de vie

Volet Détail
Maintenance Contrats sur 15 ans, upgrade optique tous 3 ans
Consommation 650 kW (NXE) / > 1 MW (EXE)
Ré-usinage miroirs Tous les 30–40 kpl (000 wafers)
Recyclabilité 80 % masse métallique récupérable
Durabilité et cycle de vie

Matrice des risques

Matrice des risques

Impact / Probabilité Faible Moyen Fort
Fort R1 (Monopole ASML) R2 (Contrôle export)
Moyen R5 (Logistique) R3 (Source LPP instable) R4 (Pénurie optiques Zeiss)
Faible R6 (Pellicle)
Matrice des risques

Descriptions - R1 : Concentration extrême – un seul fournisseur EUV - R2 : Restrictions NL/US ↔ Chine, retards 6-12 mois - R3 : Disruption laser CO₂, tin debris → downtime - R4 : Goulot Zeiss pour miroirs 0,55 NA - R5 : Dégâts transport, douanes hors gabarit - R6 : Retard pellicle haute-NA réduit le yield


Indice de Herfindahl-Hirschmann (HHI)

Indice de Herfindahl-Hirschmann (HHI)

IHH Faible Modéré Élevé
Acteurs 100
Pays 100
Indice de Herfindahl-Hirschmann (HHI)

Acteurs : ASML ≈ 100 % → monopole absolu. *Pays : chaîne dominée par les Pays-Bas.


En résumé

En résumé


Autres informations

Autres informations

Étape Localisation principale Commentaire
Fabrication sous-ensembles mécatroniques (reticle stage, capots, capteurs) Wilton (Connecticut, USA) Modules EUV/High-NA, expédiés en caisse vers Veldhoven ([7 things you didn’t know about ASML Wilton history – Stories
Source laser CO₂ & optique collecteur Sn San Diego (Cymer, USA) et partenaires Japon/DE Modules livrés à Veldhoven
Miroirs Bragg & optique projection Oberkochen (Zeiss SMT, Allemagne) Transport ultra-propre vers NL
Clean-room d’intégration complète (NXE & EXE) Veldhoven (NL) Seul endroit où l’on « ferme la machine », l’aligne, la qualifie et où part le démontage logistique (Semiconductor equipment maker ASML ships second 'High NA' EUV machine)
Ré-assemblage et mise en service chez le client Fabs client (Intel, TSMC, Samsung, SK Hynix…) Les modules sont remontés in-situ ; Intel a été le premier à assembler lui-même un EXE:5000 sous supervision ASML (Seeking edge over rivals, Intel first to assemble ASML's next-gen ...)
Autres informations

ASML ne possède pas d’usine secondaire pour l’assemblage final ; il expédie des « kits » depuis Veldhoven et supervise la reconstruction dans la salle blanche du client.

Sources techniques

Sources techniques

  1. ASML – Fiches produits EUV (NXE/EXE) (EUV lithography systems – Products - ASML, 5 things you should know about High NA EUV lithography - ASML)
  2. Digitimes, « ASML adds three High-NA EUV customers » (avr. 2025) (ASML to pass tariff costs to US customers, gain three High NA EUV customers)
  3. Reuters, « IMEC breakthroughs with ASML High-NA tool » (2024) (Belgium's imec reports breakthroughs with new ASML chip printing machine)
  4. Barron’s, « ASML stock & EUV machine cost » (2025) (ASML Is the Chip-Equipment Leader. Its Stock Is Poised to Bounce Back.)
  5. Cymer / ASML – Light-source history (Cymer | ASML - Supplying the semiconductor industry)
  6. Gigaphoton – Avancées source EUV (2025) (Gigaphoton to Showcase Technology Solutions at SPIE Advanced ...)
  7. Canon NIL FPA-1200NZ2C livraison (2024) ([News] Canon Delivers Nanoimprint Lithography System to TIE ...)
  8. Nikon Semiconductor Systems overview (2024) (Semiconductor Lithography Systems | Nikon Business)
  9. PowerElectronicsNews, « China €37 bn EUV initiative » (2025) (China Invests €37 Billion to Develop Domestic EUV Lithography ...)